第二百零四章 国产骗局，紫外激光！ (第2/2页)
“所以，你认为我们应该走哪条路呢？”
孙洪涛饶有所思地看了张星扬一眼问道。
就在刚刚，张星扬说出了自己了解到的“汉芯事件”始末，希望孙老能够重视一下这方面的事情。
不过孙洪涛倒是没有在陈度这个人身上过多地纠结，而是关注起了似乎对国产芯片有不少自己看法的张星扬。
实际上，孙洪涛的想法也是比较容易理解。
在国家大力补贴的行业，很难不出现各种各样的骗补现象。
这就好像是成堆的化肥，洒在一片田里。
长出来的会只有农作物吗？
不时的，肯定也会同时生长出一批批的杂草。
但是，伱能够因为未来有可能长出来的杂草，就不施肥了吗？
那岂不是，真的成了因噎废食？
国家能做的，就是在浪潮之中，除掉那些和农作物争夺养分的杂草，耐心地呵护还处在幼苗阶段的农作物，等待它成长的那一天。
“先不说国产芯片设计方面的问题。”
张星扬并没有谈起设计方面的问题，而是直截了当地谈起了制造方面：
“单说芯片生产，我们目前几乎所有的光刻设备，都是从国外进口。”
“一旦有人对我们实施这方面的制裁，那么后果不言而喻。”
张星扬所说的这种情况，实际上在最近的十年之中还并不会出现，要到十多年之后，才有可能会出现。
但是，那是在国产手机已经在世界手机出货量上，取得了自己一席之地之后，才会出现的情况。
目前，自主国产的手机还没有发展起来，自然也就没有这方面的顾虑。
孙洪涛在听到张星扬的说辞之后，倒是目光一沉。
众人都说，国内目前还保留着几乎世界上最为齐全的工业门类，是一件没有什么必要的事情。
但是，那些人又怎么会知道，这些看上去没有什么必要的工业门类，又为什么会一直还保留在国内吗？
不就是，在过去的岁月之中，被制裁怕了。
所以，不管别人怎么说，也要在这些方面保持自己足够的力量吗！
因为如此，孙洪涛这个似乎已经要跟不上时代发展的老头子，反而是能够理解张星扬的意思。
“但是我们现在在这方面，近乎还是一片空白，重头发展的难度很大！”
孙洪涛在沉默了几分钟之后，沙哑着声音说道。
“我们也曾经组织过技术论证，但是最后还是放弃了。”
“目前国内的技术储备，还是无法满足它的研发条件。”
光刻设备，被誉为工业皇冠上的明珠。
虽然在数十年后，这一顶工业皇冠和它上边的明珠，基本上都戴在国内的头上。
但是在这个时候，国内仅仅是在一些特定领域，能够抱有明珠，大多数的明珠还是把持在技术先发国家的手上。
“其实国内目前光刻设备，最被卡脖子的就是光源设备。”
张星扬想了想之后，还是给孙老说起了光刻设备比较困难的地方。
“您应该也知道，光刻机顾名思义是利用激光在硅晶片上进行激光作业，形成复杂集成电路。”
“在这个过程之中，首先要在晶圆表面附着一层光刻胶的保护膜，随后利用紫外线激光，去除掉晶圆表面的保护膜。”
“再用腐蚀剂，对失去保护膜的部位进行腐蚀之后，就能够在晶圆上形成集成电路。”
“这里边，想要保证集成电路的准确，确保芯片的成品率，最为关键的就是光源。”
张星扬说到这里的时候，稍微停顿了一下继续道：
“其实国内目前在紫外激光方面并不弱，只不过在光刻机光源应用上还存在一定的问题。”
“我们目前主要还是停留在对于深紫外光的研究之上，但是下一代光刻技术的关键肯定是在极紫外光上。”
“目前国际上，极紫外光的光源发展，也是很迅速。”
“据我所知，ASML的LPP EUV已经要完成开发了。”
“他们是通过四十千瓦的红外激光器激发Sn液滴产生的。
这项技术很难说是有多先进，只不过肯定是比较符合他们的利益的。”
ASML和国内毕竟不是一个情况，他们是商业公司，生产出来的光刻机自然也是作为商品存在的。
和国内作为生产工具存在的光刻设备，还是有那么一点点区别。
商品，就必须考虑到运输的问题。
这就导致ASML他们不得不在设备体型上，做出一定的限制。
而现在，张星扬要给国内带来一条在现在看来是一条歪路的办法。
“孙老，您也应该知道，我们的目的是什么？”
“我们是为了发展紫外激光，还是为了有我们国产的光刻设备？”
张星扬讲了一大堆之后，又将一个问题抛给了孙老。
孙洪涛这个时候也还没有反应过来，还没有跟上张星扬的思路：
“这两者，有什么区别吗？”
不过在说着说着，孙洪涛也反应了过来：
“难道说？”
“你有办法绕过紫外激光？”
张星扬轻轻叹了一口气：
“这个办法实际上是有点取巧的。”
“您也知道，我们发展激光的目的，是以激光为刀，在晶圆上进行雕琢。”
“所以我们要的，并不是特定的激光，而是一把锋利的刀！”
“实际上，在微观领域，是有更加锋利的刀。”
“我们在环形粒子加速器上塑造一个类似于波荡器的装置，当被加速的电子束通过这个装置的时候，从外界再打入一道高能激光。
将加速器之中的电子束给进行更加规律的排列，这样他们发出的辐射能量会变得集中。
这也就能够让环形粒子加速器的同步辐射光源发出类似直线加速器的自由电子激光。
这样的话，这束光就同时具有同步辐射的纯净性，又获得了自由电子激光的高能特性，可以应用在光刻领域了。”
张星扬在末尾，想了想还是补充了一下：
“不过这样也会有一个小缺陷。”
“什么缺陷？”
前面的技术原理，孙洪涛也是半懂不懂。
“光刻设备的体型会比较大。”
“芯片制造厂，需要围绕着光刻机来建设！”
本章技术理论来源于清华大佬团队的SSMB-EUV方案，目前还没有准确消息，仅供娱乐。
(本章完)